GLOBALFOUNDRIES近日，GF公司在其年度全球技术大会(GTC)上宣布了一项显著增强的可制造性设计(DFM)套件，该套件嵌入了先进的机器学习(ML)功能。这款ml增强型DFM解决方案是西门子与Mentor合作开发的，基于Mentor的Calibre®nmDRC平台，可以为客户提供更有效的设计和开发体验，最终有助于加快上市时间。
ml增强型DFM套件作为GF 12LP+差异化半导体解决方案的工艺设计套件(PDK)的更新而推出。12LP+建立在一个经过验证的平台上，拥有强大的生产生态系统，针对人工智能(AI)训练和推理应用进行了优化，目前已准备好在纽约马耳他的GF Fab 8生产。
GF的ml增强型DFM解决方案是业内首创。格芯计划在2020年第四季度将该功能推广到其12LP和22FDX®半导体平台的pdk中。
GF技术支持副总裁Jim Blatchford表示:“我们很高兴推出这一全新的增强功能，融合了先进的机器学习模型，为我们的客户提供更快速的整体DFM验证和更有效的设计体验——所有这些都是为了实现成功的原型设计和更快的上市时间。”“我们与门拓的密切合作有助于将新的增强功能无缝集成到我们的12LP+ PDK中，我们期待在PDK中为我们的其他专业半导体解决方案推出额外的机器学习功能。”
Mentor Calibre设计解决方案物理验证产品管理总监Michael White表示:“我们很高兴与GLOBALFOUNDRIES合作，将基于机器学习的模型集成到Calibre nmDRC中，用于GF的12LP+平台。“我们与GLOBALFOUNDRIES合作，将机器学习纳入设计流程，帮助我们的共同客户实现无缝过渡。”
自2009年成立以来，GF率先推出了DFM检查平台DRC+，该平台将电子设计自动化(EDA)软件中的模式匹配工具与专用的良率减分模式库相结合。DRC+使芯片设计人员能够在早期设计中预防性地检测可能导致制造缺陷的缺陷模式或热点。
GF和Mentor合作，将GF开发的ML模型集成到DRC+中，以帮助增强DRC+识别以前未见过的热点模式的能力，并提高产量。通过GF对其制造过程中收集的硅数据进行培训，ml增强型DFM套件已经过验证和认证，使芯片设计人员能够在设计过程早期更成功地发现和缓解潜在问题。
在开发阶段捕捉和解决这些热点问题对设计师来说至关重要，因为他们正朝着成功的原型和大规模制造前进。
GF 12LP+准备投入生产
为满足快速增长的AI市场的特定需求，GF的12LP+提供了性能、功率和面积的组合。此外，还有一些附加功能，包括更新的标准单元库、用于2.5D封装的插入器和低功耗0.5V V最小值SRAM位单元，支持在AI处理器和内存之间进行低延迟和节能的数据传输。
12LP+是在GF的14nm/工艺基础上发展起来的12资讯平台其中，广发晶圆出货量超过100万片。通过密切合作并向AI客户学习，GF开发了12LP+，为AI领域的设计师提供更大的差异化和更高的价值，同时最大限度地降低他们的开发和生产成本。
与12LP相比，12LP+的soc级逻辑性能提升了20%，逻辑区域扩展提高了10%。这些进步是通过12LP+实现的，其下一代标准单元库具有性能驱动的区域优化组件、单个Fin单元、低压SRAM位单元和改进的模拟布局设计规则。
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